硅/ 碳负极材料的合成方法

1 气相沉积法

气相沉积法包括化学气相沉积法（CVD法）和物理气相沉积法（PV D法）％ CVD法是一种用于生产高质量、高性能的固体材料的化学方法，通常应用于半导体领域的薄膜制造。PVD法是一种真空沉积法，可以用来制作薄膜和涂层。PVD法中，材料经历了凝聚态转变为气态，然后再转变为凝聚态薄膜的变化过程。PVD法最常用到的处理方法是溅射和蒸发。PVD法常用于制造具有力学、光学、化学或电学性能的薄膜J] %

1.2高温固相合成法

高温固相合成是一种在高温(1000 # 1500℃)下，通过固体界面之间的接触、反应、成核和晶体生长反应生成大量的复合氧化物的方法。高温固相合成是制备硅/碳负极材料的一种常用方法，为了防止惰性相硅/碳的生成，反应温度通常控制在1 200 C [15]。

在反应过程中，升温速率、反应前驱物的选择和反应温度将直接影响材料的结构和性能。高温固相合成技术因工艺简单，工艺参数易于控制，重现性好而被广泛应用。

1.3 机械合金化法

机械合金化是一种固态粉末加工技术，是通过采用重复冷焊、压裂和在高能球磨机中重新焊接混合粉末粒子，得到均匀材料的一种方法，已被证明能够从混合元素或预合金粉末中合成各种平衡和非平衡合金相*6] % 与高温固相合成法相反，机械合金化法制备的材料通常具有更小的粒度，更大的比表面积和更均匀的组织*17] %1.4 静电纺丝法静电纺丝技术融合了电喷涂和传统的溶液干法纺丝纤维的优点*8]，纤维直径一般为几百纳米。静电纺丝过程不需要使用化学凝固或高温从溶液中产生纺丝，这使得该工艺特别适用于生产大而复杂的微粒纤维[19:20] % 静电纺丝法可利用各种材料制备纳米纤维，是一种低成本、工艺简单的通用方法。同轴静电纺丝法是一种改进的静电纺丝技术，可制备纳米管和核壳结构纳米纤维。